邀请函 | 凌凯科技 LinkChem邀您共赴2024势银光刻材料产业大会！

光刻材料是指光刻工艺中用到的增粘材料、抗反射涂层、光刻胶、化学溶剂和显影液，还包括193nm浸没式光刻中用到的抗水涂层。其中，作为光刻工艺中不可或缺的核心材料，光刻胶在半导体制造环节中扮演着重要角色。

伴随着芯片产业的蓬勃发展，光刻技术在芯片制造中的重要性越来越突出，而国产光刻材料市场也正在逐步崛起。

近日，由势银(TrendBank)主办、江南大学光响应功能分子材料国际联合研究中心协办的2024势银光刻材料产业大会将于6月25-26日在苏州隆重召开！

届时，凌凯科技将与现场多家优秀企业代表、行业专家、学者等深度探讨光刻材料前沿技术研发、产学研协同合作、市场动态及未来发展趋势。

会议详情

时间：2024年6月25-26日

地点：苏州汇融广场假日酒店

         江苏省苏州市虎丘区城际路21号

展位号：No.10

凌凯科技‧LinkChem成立于2011年，是中国少有的从事化学合成一体化解决方案的领导者之一。公司专注于以创新驱动、工程工艺协同，提供小分子化合物研发、生产及商业化服务，横跨且深耕医药、新材料和新能源三大领域。

通过持续的技术开发与积累，凌凯科技可在光刻胶单体、PI单体、PSPI单体、锂电材料、功能性单体等方面提供从技术研发、关键工艺优化、成品质量控制到商业化生产的一站式解决方案。目前，公司多款新材料产品已经通过样品测试，部分产品已进入大吨位供应阶段。